PRECISION GAS FLOW METERS & GAS FLOW CONTROLLERS

Low-E Glasherstellung

Hohe Reproduzierbarkeit und Plug-&-Play-FunktionalitĂ€t fĂŒr Niederemissions-Glasherstellung (Low-E)

Low-E-Glas enthĂ€lt mehrere OberflĂ€chenbeschichtungen aus Metall oder anderen Verbundstoffen, die eine hohe DurchlĂ€ssigkeit fĂŒr sichtbares Licht und hohe Reflexion fĂŒr mittlere und lange IR-Wellen aufweisen.

Neben der gĂŒnstigen LichtdurchlĂ€ssigkeit bestehen die Vorteile im Vergleich zu herkömmlich beschichteten GlĂ€sern in einer ausgezeichneten WĂ€rmedĂ€mmung. Es kann zudem auf Ă€sthetische Anforderungen an das Glas eingegangen werden (z.B. Verspiegelung).

Building with low emission glass

Anwendung

Bei der Herstellung von Low-E Glas ist die Magnetron-Sputtering Glasbeschichtungstechnologie weitverbreitet. Bei diesem Prozess wird der Gasfluss (Inertgas Ar oder reaktive Gase O2 und N2) mit einem Massedurchflussregler (MFC) in höchster QualitÀt geregelt.

In einer Vakuumumgebung wird durch Anlegen einer Hochspannung und ZufĂŒhren von Argon ein Plasma erzeugt. Die positiv geladenen Argon-Ionen werden durch das elektrisch-magnetische Feld mit hoher Geschwindig­keit auf das negativ geladene Magnetron-Target (Kathode) geschleudert. Durch die Kollision wird das Zielmaterial auf der Kathode zerstĂ€ubt und das dadurch freigesetzte Beschichtungsmaterial bewegt sich in der Vakuumkammer in Richtung des gegenĂŒber­liegenden Substrats (z.B. Glasscheibe). Dort setzt es sich als DĂŒnnschichtfilm nieder.

Das Ziel bei diesem Verfahren sind einheitliche und konsistente Filmschichten was eine Àusserst exakte und prÀzise Gasdosierung erfordert.

Herausforderung

Der Gasfluss muss beim Beschichtungsprozess auf einem sehr stabilen Niveau gehalten werden, um eine ungleiche Beschichtung und Flecken sowie einen negativen Einfluss auf die allgemeine Energie der Partikel in der Beschichtung zu vermeiden: Dies wĂ€re fĂŒr eine reaktive Ablagerung ungĂŒnstig. Ein komplexes Gasverteilungssystem erfordert zahlreiche Prozessgasabzweigungen. Die Installation und Inbetriebnahme von Einzelkanal-Gaskreisen sind mĂŒhselig und mit viel Arbeit verbunden, zumal ein solches System normalerweise die Effizienz verringert und Leckstellen generiert. Zudem können menschliche Fehler bei der Handhabung den Vorgang ebenfalls beeintrĂ€chtigen (falscher Anschluss von Gasmisch- und Anschlusskreisen).

Lösung

Die MEMS-Technologie der Massedurchflussregler bietet schnelle Reaktionszeiten von 350 ms. Die Plug-&-Play-FunktionalitÀt ohne AufwÀrmphasen verbessert die AnwenderproduktivitÀt.

Vögtlin Massedurchflussregler gleichen Änderungen der Umgebungs- oder der Gastemperatur durch die automatische Temperaturkompensation aus. Dies verbessert die Wiederholgenauigkeit erheblich. Die MEMS-Technologie gewĂ€hrleistet langfristige StabilitĂ€t ohne Abweichungen unter der Voraussetzung einer sauberen und trockenen Gasversorung.

Zur Befestigung eines Massedurchflussreglers ist nur eine einzige Schraube erforderlich, was eine schnelle und prÀzise Montage ermöglicht. Ein integriertes Ventilleistendesign und eine Rohrkonstruktion zur prÀzisen internen Mischung und Verteilung tragen dazu bei, operative Schwachstellen zu vermeiden und den Benutzerkomfort zu erhöhen.

Weitere Vorteile bestehen in der Einsparung von Verbrauchsmaterialien fĂŒr die Verrohrung der Gasquelle, weniger Leckstellen und geringer Zeitaufwand bei der Installation im Feld, sowie einfache und prĂ€zise Realisierung von komplizierten Gasmisch- und Verteilprozessen. Die GerĂ€te können auf verschiedene Gase und Parameter hin kalibriert werden, was den Ersatzteilbestand erheblich verringert und deutlich Kosten einspart.

Hauptmerkmale

  • Hohe Wiederholgenauigkeit & ZuverlĂ€ssigkeit
  • Kurze Ansprechzeit
  • Sichere & schnelle Steuerung
  • Kompakte Einheit mit hochwertigen Komponenten

VerfĂŒgbare Schnittstellen

  • Analog
  • Modbus RTU
  • Profibus DP-V0/DP-V1
  • Profinet*
  • EtherCAT*

*verfĂŒgbar ab Januar 2019

Empfohlene Produkte:

Download OEM Application Story Niederemissions-Glasherstellung (Low-E)

PDFAnwendungsbericht Niederemissions-Glasherstellung (Low-E)AnwendungsberichteDEEN